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奥林巴斯光谱仪射线強度有影响的因素是什么呢?奥林巴斯光谱仪的定量分析是以荧光x光线的強度为根据的，影响光谱仪射线強度的因素会影响分析的精确度，以下是主要两大影响因素：
一、基体效应:
基体效应包含吸收效应及加强效应。
吸收效应包含基材对入射x光线的吸收及对荧光x光线的吸收。由于用射线激发试品时，不只是作用于试品表层并且能穿透相应的厚度进入试品里面，并且试品里面分析元素形成的荧光x光线，也必须穿过相应厚度的试品才可以射出。在穿透过程中，这二种x光线都会因基材元素的吸收而使射线強度减弱，射线减弱会影响对分析元素的激发效率。
假如入射x光线使基材元素激发所形成的荧光x光线的波长略短于分析元素的吸收边，它会使分析元素形成二次荧光x光线，进而使分析元素的荧光x光线強度加强，这就是基材的加强效应。
假如吸收效应占主导作用，则分析結果稍低，假如加强效应占主导作用，则分析結果较高。
二、不均匀效应:
不均匀效应就是指试品颗粒大小不均匀及试品表层光洁度对荧光x光线強度的影响。对粉末试品，大颗粒吸收效应强，小颗粒吸收效应弱，因而，要求颗粒粒度尽可能小一些，以减少对x光线的吸收。测短波x光线时，要求粒度在250目以上，测量波长超过0.2nm的长波x射线时，则粒度要求在400目以上。
固体块状试样一定要磨平拋光，粉末试样要压紧并使表层平滑。粗糙表层会使荧光x光线的強度明显下降。测量短波x光线时，光洁度在1005m左右，测量长波x光线时，光洁度为20-50Mm。
